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薄膜材料表面缺陷分析用飛納

更新時(shí)間:2026-07-29
產(chǎn)品型號(hào):Phenom XL G3
所屬分類:臺(tái)式掃描電鏡
描述:Phenom XL G3 是飛納推出的大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡,可用于薄膜材料表面缺陷分析,幫助觀察劃痕、顆粒、孔洞和結(jié)構(gòu)特征。
詳情介紹

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡,可用于薄膜材料表面缺陷分析,幫助觀察劃痕、顆粒、孔洞和結(jié)構(gòu)特征。

Phenom XL G3 平均成像時(shí)間約 40 秒,可對(duì)最大 100 x 100 mm 的樣品進(jìn)行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測(cè)場(chǎng)景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲,電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm,適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測(cè)試等應(yīng)用。

該產(chǎn)品具備大倉(cāng)室樣品臺(tái)、低/中/高三種真空模式、背散射探測(cè)器,并可根據(jù)需求選配二次電子探測(cè)器和能譜探測(cè)器。具體配置和價(jià)格根據(jù)型號(hào)、功能及應(yīng)用需求確定,可通過平臺(tái)詢價(jià)/留言入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

1. 大倉(cāng)室設(shè)計(jì),可分析最大 100 x 100 mm 樣品。

2. 平均成像時(shí)間約 40 秒,適合多樣品觀察和日常檢測(cè)。

3. 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm。

4. 采用 CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)。

5. 支持低、中、高三種真空模式,適合多類材料樣品。

6. 標(biāo)配背散射探測(cè)器,可選配二次電子探測(cè)器和能譜探測(cè)器。

7. 臺(tái)式設(shè)計(jì),適合實(shí)驗(yàn)室日常部署與使用。

8. 支持選型咨詢,可預(yù)約試樣。

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

可用于薄膜材料表面缺陷分析、高分子薄膜檢測(cè)、包裝材料觀察、表面形貌分析和質(zhì)量控制。

 

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品型號(hào):Phenom XL G3

產(chǎn)品全稱:XL 大倉(cāng)室自動(dòng)化電鏡

產(chǎn)品類型:大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡

光學(xué)放大:3 - 19 X

電子光學(xué)放大:200,000 X

分辨率:優(yōu)于 8 nm

電子槍:CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)

光學(xué)導(dǎo)航相機(jī):彩色

平均成像時(shí)間:約 40 秒

最大樣品尺寸:100 x 100 mm

樣品承載:可同時(shí)容納 36 個(gè)樣品

加速電壓:基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV

高級(jí)模式:4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)

真空模式:低 / 中 / 高三種模式

探測(cè)器:背散射探測(cè)器

可選探測(cè)器:二次電子探測(cè)器、能譜探測(cè)器

 

常見問題:

1. 這款設(shè)備適合哪些樣品?適合較大尺寸樣品、多樣品檢測(cè)以及常規(guī)材料形貌觀察。

2. 是否可以做元素分析?設(shè)備可根據(jù)需求選配能譜探測(cè)器,用于顆粒、異物或局部區(qū)域的元素分析。

3. 價(jià)格是多少??jī)r(jià)格根據(jù)設(shè)備配置、探測(cè)器選項(xiàng)、應(yīng)用需求和服務(wù)方案確定,可通過平臺(tái)詢價(jià)入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。

 

如需了解 Phenom XL G3 在薄膜材料表面缺陷中的配置方案、應(yīng)用資料或報(bào)價(jià)信息,可通過平臺(tái)詢價(jià)/留言入口提交樣品類型與測(cè)試需求,獲取選型建議,并預(yù)約試樣。


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傳真:

郵箱:info@phenom-china.com

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